真空爐是一種真空加熱設(shè)備，主要用于陶瓷燒成、真空熔煉、電真空零件脫氣、金屬零件退火、釬焊等。設(shè)備主要是通過(guò)真空系統(tǒng)使?fàn)t腔內(nèi)壓力低于標(biāo)準(zhǔn)大氣壓，從而實(shí)現(xiàn)真空狀態(tài)，然后在真空狀態(tài)下加熱。該技術(shù)有效地克服了傳統(tǒng)加熱工藝帶來(lái)的工件表面氧化脫碳等缺點(diǎn)，具有無(wú)污染、測(cè)溫準(zhǔn)確、機(jī)電一體化程度高等優(yōu)點(diǎn)。下面作為真空爐廠家具體來(lái)介紹下此設(shè)備的熱處理問(wèn)題。
1、真空爐處理鈦合金時(shí)，不宜用氮?dú)庾鳛槔鋮s氣體，因?yàn)殁伜偷诟邷叵路错懀瑯?gòu)成金黃色的氮化鈦。
2、真空爐活動(dòng)銜接部分悉數(shù)采用O型橡膠圈密封銜接，此部分均通水冷卻。
3、工件在真空狀態(tài)下淬火，應(yīng)運(yùn)用真空淬火油，此油具有較低的飽和蒸氣壓。
4、設(shè)備的保養(yǎng)應(yīng)在真空或充純氮狀態(tài)下，避免平時(shí)不用時(shí)吸氣，吸潮。
5、國(guó)內(nèi)真空爐的壓升率應(yīng)不大于1.33Pa/h，國(guó)外某些企業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)為0.67Pa/h
6、真空加熱以輻射為主，工件在爐內(nèi)應(yīng)該堅(jiān)持間距。
7、升溫過(guò)程中，工件及爐內(nèi)材料會(huì)放氣，使真空度下降。
8、真空回火、真空退火、真空固溶處理及真空時(shí)效的加熱溫度一般與慣例處理時(shí)加熱溫度相同。
9、真空回火爐應(yīng)該具有快冷裝置。冷卻水的壓力應(yīng)該大于0.2Mpa，流量應(yīng)可調(diào)。
10、冷卻氣體：鋼一般采用百分之99.995純度的氮?dú)猓邷睾辖鸩捎冒俜种?9.999的氮?dú)饣驓鍤猓伜辖鸩捎冒俜种?9.995的氬氣。
11.升溫：放入工件后，一般先預(yù)抽至6.67Pa時(shí)方可升溫加熱。
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