真空高溫爐常規型號                          

SG-XS1200 高溫度1200℃  SG-XS1400 高溫度1400℃

SG-XS1700 高溫度1700℃  SG-XS1800 高溫度1800℃

常規爐膛尺寸（mm）    

100x100x100，200x150x150

300x200x200，400x300x300，500x400x400

 *其他馬弗爐型號可以定制

　　真空高溫爐是一種特殊的高溫爐，其主要功能是在真空條件下，將材料加熱至高溫狀態，以進行熱處理、熔煉、退火等工藝。真空高溫爐廣泛應用于冶金、材料科學、化學、電子、光學等領域。

　　一、主要結構

　　真空高溫爐主要由爐體、加熱器、溫度控制系統、真空系統、氣體控制系統等組成。其中，爐體是主體部分，其材料選用高溫合金材料或陶瓷材料。加熱器則負責產生高溫，一般采用電阻加熱器、燈絲加熱器、電感加熱器等方式。溫度控制系統負責實時監測和控制爐內溫度，使其在設定的范圍內穩定工作。真空系統則負責將爐內空氣排出，保持爐內真空，通常采用機械泵、分子泵、根泵等裝置。氣體控制系統可實現爐內氣氛的控制，以適應不同工藝需要。

　　二、應用領域

　　1、金屬材料加工

　　一個重要應用領域是金屬材料的加工。其通常采用熱處理、熔煉、退火等方式，以改變金屬的組織結構、提高硬度、改善材料的耐腐蝕性等性能。

　　2、電子器件加工

　　真空高溫爐還有廣泛的應用于電子器件的加工過程中。例如，晶圓退火、金屬薄膜沉積、陶瓷基板制備等工藝都需要使用到真空高溫爐。

　　3、光學玻璃加工

　　真空高溫爐還可以用于光學玻璃的加工。例如，對光學玻璃進行退火處理，可以消除制造過程中產生的內部拉應力，提高光學玻璃的品質和穩定性。

　　4、粉末冶金

　　真空高溫爐還可以用于粉末冶金工藝中，例如燒結、熱等靜壓、熱處理等工藝。

　　三、主要特點

　　1、高純度

　　真空高溫爐在使用過程中，由于爐內真空狀態，不會產生雜質的污染，因此能夠保證材料的高純度。

　　2、高溫度

　　真空高溫爐能夠在非常高的溫度范圍內進行加熱處理，通常最高可以達到2000℃。

　　3、可控性

　　溫度控制系統能夠實現對爐內溫度的精確控制，以滿足不同工藝需要。

　　4、爐內氧化

　　由于真空高溫爐爐內不含氧氣，所以加工過程中可以有效避免材料的氧化。

　　5、安全性

　　真空高溫爐在加工過程中爐內幾乎沒有氣體或液體，因此比傳統的高溫爐更加安全。

　　四、部分技術參數

　　1、最高溫度：2000℃

　　2、工作室尺寸：根據客戶要求定制

　　3、加熱方式：電阻加熱器、燈絲加熱器、電磁感應加熱器等

　　4、真空度：10-2 Pa

　　5、控制方式：PLC控制系統

　　典型型號：GD-R1600C-5050，最高溫度1600℃，爐體尺寸為500*500*500mm，控制方式為PID自動控制系統。

　　五、應用案例

　　真空高溫爐在壓電陶瓷的制備過程中有著廣泛的應用。壓電陶瓷是一種應用廣泛的功能陶瓷，在醫療、航空、電子等領域得到了廣泛的應用。其性能的好壞主要與陶瓷的晶粒、氣孔、晶間間隙以及氧化物、堿土金屬的雜質等有關。因此，制備高品質陶瓷的關鍵在于控制材料的物理和化學性質。真空高溫爐在壓電陶瓷的制備過程中，通過控制陶瓷的溫度和氣氛，有效改善了陶瓷的物理和化學性質，提高了制品品質和穩定性。

　　真空高溫爐在粉末冶金領域也有著廣泛的應用。在粉末冶金制備過程中，真空高溫爐可以起到燒結粉末、改善材料的物理性能等重要作用。同時，其的精確溫度控制和高真空處理能力，能夠實現對材料的微觀結構、晶體形貌等方面的控制。

　　六、總結

　　真空高溫爐是一種重要的加工設備，在多個領域都得到了廣泛的應用。其優點在于爐內真空、高溫高純等特點。隨著加工技術的不斷發展和更新換代，真空高溫爐也在不斷優化和升級。預計應用領域將會更加廣泛，其性能和質量也會更加。

真空高溫爐參數：